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【无锡冠亚】半导体晶圆冷却装置 硅片循环水冷却机 ，冠亚制冷的半导体控温chiller主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，40℃以内加热方式采用压缩机热气加热，半导体控温chiller循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵，经过24小时连续运行拷机。

【无锡冠亚】硅片快速冷却装置 晶圆快速水冷机 ，冠亚制冷的半导体控温chiller主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，40℃以内加热方式采用压缩机热气加热，半导体控温chiller循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵，经过24小时连续运行拷机。

【无锡冠亚】硅片冷却装置 单晶硅冷却冷冻机 冷水机 ，冠亚制冷的半导体控温chiller主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，40℃以内加热方式采用压缩机热气加热，半导体控温chiller循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵，经过24小时连续运行拷机。

【无锡冠亚】反应装置低温循环设备 数据中心chiller ，冠亚制冷设备制冷温度范围从-150度到-5度，可满足不同制冷温度需求。产品广泛应用于化工、制药、生化、新能源、元器件等行业低温反应领域，制冷速度快，安全可靠。

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