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水循环制冷制热一体机-热循环加热器

简要描述:【无锡冠亚】水循环制冷制热一体机-热循环加热器,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-675
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-05-27
  • 访  问  量:79
详情介绍
品牌冠亚恒温价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药/生物制药,综合

水循环制冷制热一体机-热循环加热器


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


水循环制冷制热一体机-热循环加热器

水循环制冷制热一体机-热循环加热器

   

 

  半导体制冷机chiller±0.5℃精度控制的技术手段

  1、冗余测温与传感器融合

  在进水口、出水口及工艺腔室内布置铂电阻传感器,结合红外热像仪监测温度场分布,数据融合后控温精度提升。

  自校准机制:每24小时自动进行冰点校准,消除传感器漂移误差。

  2、智能温控系统

  PID+前馈控制:结合比例-积分-微分(PID)算法与前馈控制,实现温度的准确跟踪与快速稳定。

  压力梯度管理:通过变频泵调节冷却介质流速,确保腔体内各点水压波动,避免局部过热。

  半导体制冷机chiller典型应用场景

  1. 晶圆制造:光刻与蚀刻工艺的温控保障

  光刻胶涂布:温度波动超过±0.5℃会导致光刻胶厚度不均,半导体制冷机chiller通过闭环控制将晶圆台温度稳定,确保线宽精度。

  蚀刻机热管理:蚀刻过程中反应腔温度需控制在±0.3℃,半导体制冷机chiller集成液冷系统实现快速热交换,避免工艺偏差。

  2. 封装测试:芯片可靠性验证

  焊线机温控:键合头温度需稳定,半导体制冷机chiller通过微型化设计嵌入设备,确保焊接强度与良率。

  老化测试:加速寿命试验中,半导体制冷机chiller为多工位测试台提供独立温控通道,支持宽域循环。


水循环制冷制热一体机-热循环加热器



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