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晶圆制造过程控温Chiller用于封装温度控制

简要描述:【无锡冠亚】是一家专注提供高低温控温解决方案的设备厂家,公司主要生产高低温冲击气流仪(热流仪)、chiller、超低温制冷机、高低温测试机机、高低温冲击箱等各种为通讯、光模块、集成电路芯片、航空航天、天文探测、电池包氢能源等领域的可靠性测试提供整套温度环境解决方案。晶圆制造过程控温Chiller用于封装温度控制

  • 产品型号:FLTZ-003
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-02-26
  • 访  问  量:274
详情介绍
品牌冠亚恒温冷却方式水冷式
价格区间10万-50万产地类别国产
仪器种类一体式应用领域化工,电子/电池,航空航天,汽车及零部件,电气

晶圆制造过程控温Chiller用于封装温度控制

晶圆制造过程控温Chiller用于封装温度控制


  晶圆制造过程控温Chillerr在晶圆制造中承担关键温控功能,其应用覆盖光刻、刻蚀、薄膜沉积等核心工艺环节。以下是具体应用案例与技术细节分析:

  一、光刻工艺温度控制

  1.光刻胶恒温管理:晶圆厂采用Chiller为ArF光刻机提供冷却,通过维持光刻胶温度在23±0.1℃,使光源的曝光精度提升。

  2.镜头热变形补偿:在EUV光刻机中,晶圆制造过程控温Chiller通过双循环系统(-30℃冷水+40℃热油)同步冷却光学模块,将镜头热膨胀系数控制,实现节点套刻精度提升。

  二、刻蚀工艺动态控温

  1.等离子体刻蚀温度优化:某存储芯片厂在3D刻蚀中,使用Chiller将反应腔温度稳定在-20℃至80℃可调范围,使刻蚀均匀性提升。

  2.湿法刻蚀液温控:在硅槽刻蚀工艺中,晶圆制造过程控温Chiller维持氢氟酸混合液温度在25±0.3℃,刻蚀速率标准差下降。

  三、薄膜沉积工艺温控

  1.ALD原子层沉积:芯片制造中,晶圆制造过程控温Chiller为ALD设备提供40℃恒温环境,使高介电薄膜厚度偏差更小。

  2.CVD反应腔冷却:在SiN薄膜沉积中,采用双级压缩Chiller,将反应腔壁温控制在80±1℃,薄膜应力均匀性提升。 

  四、清洗与离子注入工艺

  1.超纯水冷却系统:在晶圆单片清洗机中,晶圆制造过程控温Chiller维持超纯水温度在22±0.2℃,减少DI水表面张力波动,使颗粒残留降至。

  2.离子注入机靶材冷却:采用-40℃低温Chiller冷却硅靶材,使硼离子注入深度偏差优化。

晶圆制造过程控温Chiller的技术迭代正推动晶圆制造向更好的方向发展,成为半导体设备国产化进程中的突破点之一。



晶圆制造过程控温Chiller用于封装温度控制




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