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TCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器

简要描述:【无锡冠亚】TCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-420
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-01-17
  • 访  问  量:749
详情介绍
品牌冠亚制冷价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药/生物制药,综合

TCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载?;?;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

 

  随着科技的不断进步和工业的快速发展,化工行业对温度控制的要求日益严格。在这种背景下,TCU温控系统凭借其温度控制性能和稳定性,在化工行业中得到了广泛的应用。

  一、TCU温控系统的基本原理

  TCU温控系统主要通过传感器检测目标环境的温度,并与设定的温度进行比较。根据差值,系统会自动调整加热或制冷设备的功率,以达到并维持设定的温度。这种闭环控制方式使得TCU温控系统能够提供准确的温度控制。

  二、化工行业对温度控制的需求

  在化工行业中,许多化学反应都需要在特定的温度下进行。过高或过低的温度都可能导致反应速率的变化、副产物的生成,甚至引发安全事故。因此,化工行业对温度控制有着高的要求。

  三、TCU温控系统在化工行业的应用案例

  1、聚合反应控制:在聚合反应中,温度是影响分子量分布和产品性能的关键因素。通过TCU温控系统,可以准确控制反应温度,从而获得理想的聚合度和产品质量。

  2、精馏过程优化:精馏是化工生产中常见的分离技术。TCU温控系统可以确保塔内温度的稳定,提高分离效率和产品质量。




  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

TTTTCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器

TCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器


TCU制冷加热循环装置 高低温液体循环器









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