冠亞制冷——低溫制冷機（支持非標定制）

無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司生產的中型單流體低溫冷凍機，

制冷溫度范圍從-150℃~-5℃，制冷速度快，

用于液體快速制冷，

廣泛應用于石化、醫療、制藥、生化、凍干、制藥等行業

冠亞制冷 冷凍機主要類型

低溫冷凍機 ：-150℃至-5℃

低溫制冷循環器 ：-120℃至+30℃

精密冷水機 ：+5℃至+50℃

直冷型低溫制冷機 ：-120℃至-10℃

直冷式超低溫制冷機 ：-150℃至-110℃

小試階段制冷加熱循環器 -40度低溫冷凍機

小試階段制冷加熱循環器 -40度低溫冷凍機

　　冠亞制冷反應釜的精密溫度控制在化工、制藥、新材料研發以及生物技術等領域中扮演著不同的角色。以下是一些具體應用介紹：

　　1.化學合成過程：許多化學反應速率和產物分布受到溫度的顯著影響，通過溫度控制系統，可以準確控制反應速度和選擇性，提高目標產物的產率和純度，降低副反應的發生。

　　2.聚合反應：在高分子材料生產中，如塑料、橡膠等聚合物合成過程中，溫度控制對鏈增長、終止反應及產品的性能具有決定性作用。

　　3.藥物結晶：藥物晶體形態直接影響藥品的質量和穩定性，通過溫度控制能夠實現對結晶條件的嚴格調控，優化藥物晶體大小、形狀及其溶解度特征。

　　4.酶催化反應：酶活性通常高度依賴于環境溫度，溫度控制能保證酶催化反應在條件下進行，提高轉化效率和產物質量。

　　5.生物發酵過程：生物發酵過程中，微生物生長和代謝活動要求恒定或特定變化的溫度環境，確保了生物反應器內的溫度穩定，促進穩定的生物產品生成。

　　6.超臨界萃取與分離：在超臨界流體萃取或分離過程中，溫度的變化直接影響流體的性質和萃取效果，因此需要準確控制反應釜內的溫度以優化工藝參數。

　　7.半導體晶圓加工：半導體制造中的化學氣相沉積（CVD）和其他相關步驟也需要溫度控制精度，以保證薄膜均勻性和晶格結構一致性。