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| 品牌 | 冠亚制冷 | 冷却方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 价格区间 | 10万-50万 | 产地类别 | 国产 |
| 仪器种类 | 一体式 | 应用领域 | 化工,生物产业,电子/电池,制药/生物制药,汽车及零部件 |
主要产品包括半导体专?温控设备、射流式?低温冲击测试机和半导体??艺废?处理装置等?设备，
?泛应?于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。
半导体专温控设备
射流式?低温冲击测试机
半导体专用温控设备chiller
Chiller气体降温控温系统
Chiller直冷型
循环风控温装置
半导体?低温测试设备
电?设备?温低温恒温测试冷热源
射流式高低温冲击测试机
快速温变控温卡盘
数据中心液冷解决方案
| 型号 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 温度范围 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控温精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 内循环液容积 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨胀罐容积 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷剂 | R410A | ||||||
| 载冷剂 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI温度需要控制10℃以上） | ||||||
| 进出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷却水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷却水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 电源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 温度扩展 | 通过增加电加热器，扩展-25℃～80℃ | ||||||
介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序
介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序
随着科技的不断发展，半导体行业对设备冷却的需求日益增长，浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller在半导体制造过程中发挥着作用。本文将对浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller的应用进行详细介绍。
1、半导体制造：在半导体制造过程中，浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller被广泛应用于冷却芯片、晶体管等高精度、高功率器件。
2、激光器冷却：激光器在运行过程中会产生大量的热能，浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够为激光器提供稳定的冷却环境，保证其性能稳定。
3、电力电子设备冷却：在电力电子设备中，如变频器、电源等，浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够有效地冷却关键器件，提高设备可靠性。
4、其他领域：除上述领域外，浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller还广泛应用于设备、光学仪器等领域。
浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够实现温度的准确控制，为设备提供稳定的冷却环境。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller结构紧凑，体积小，适用于空间有限的场合。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller操作简单，维护方便，降低了使用成本。
