TCU-无锡冠亚反应釜控制ZLF-50NSH

TCU-无锡冠亚反应釜控制ZLF-50NSH

　　反应釜作为制药生产中实现化学反应的主要设备,在实际的化学合成反应过程中,温度是工业生产中常见的工艺参数之一,任何物理变化和化学反应过程都与温度密切相关。反应釜的温度控制-反应釜控制ZLF-50NSH占有着较为重要的地位。从传统的手动控温逐渐转变为自动控温,随着制药行业水平的不断提高,对生产所需的各种设备、仪器仪表的要求也在不断的提高。自动温度控制模块(以下称温控单元)是指通过外界提供的冷源和热源对各种设备如反应釜、干燥箱等实现温度的自动控制。

　　在实际化工生产过程中,反应釜的温度会影响化工产品的生产质量,在很大程度上生产,也在一定程度上影响安全的化学过程。因此如何反应的化学反应器温度控制准确,,就变得越来越重要。

反应釜控制ZLF-50NSH针对在化学反应釜内进行温度控制的不确定滞后导致的控制困难,采用一种模糊PID控制算法。算法利用PLC的系统功能进行实现。系统充分利用了PLC控制系统灵活、可靠、抗干扰能力强等特点。现场运用结果表明系统较好消除了时变时滞对控制的影响,具有较好的鲁棒性。